头孢噻呋注射液胶体磨,头孢噻呋注射液研磨分散机 混悬剂的质量要求是：药物本身化学性质应稳定，有效期内药物含量符合要求；混悬微粒细微均匀，微粒大小应符合该剂型的要求；微粒沉降缓慢，口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90，沉降后不结块，轻摇后应能迅速分散；混悬剂的粘度应适宜，倾倒时不沾瓶壁；
头孢噻呋胶体磨研磨分散设备。
此次北京某客户来SGN寻求理想的研磨设备，他们的项目急需上马，但苦于国产胶体磨的效果达不到（粒径在15微米以下，原始粒径50微米）。按照SGN工程师的建议和设备选型，使用了GMSD2000/4高剪切研磨分散机，进行了30分钟的实验，实际效果完全符合客户的预期！
头孢噻呋胶体磨研磨分散设备的研磨效果
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点：
1.胶体磨磨头头的剪切速率 （越大，效果越好）
2.胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
3. 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
4.循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
头孢噻呋胶体磨研磨分散设备 是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
一级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
| 技术及价格请来电：刘经理 13681679740 QQ：428341525，公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导！ |
| 研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
| GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
| GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
GMSD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。